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添加剂的作用及补充：
开缸剂510Mu：开缸剂不足时，会在高、中电位区出现疏松的条纹状镀层；开缸剂过量时，低电区会产生雾状镀层。
主光剂510A：A含量过低时，整个电流密度区的镀层填平度下降；A过量时，低电位区的填平度会突然变差，形成明显的分界。
主光剂510B：B含量不足时，镀层极易烧焦；而B过量时，会引起低电位区严重起雾。
氯离子的作用及影响： 氯离子在光亮酸性镀铜工艺中具有极为重要的作用，适量的氯离子可以帮助添加剂发挥效果，镀出致密、光亮、平滑的镀层。如果氯离子含量过低，镀层在高、中电位区易出现起伏的条状，同时在低电位区有雾状镀层出现；如果氯离子含量过高时，镀层的光亮度和填平度会显著下降，阳极表面还会出现灰白色的薄膜而发生钝化。