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美国现已使用低缺陷光学薄膜溅镀设备

放大字体  缩小字体发布日期:2006-11-14  浏览次数:443

日本爱发科(ULVAC)和美国JDS Uniphase公司(JDSU)开发出了能够高效生产缺陷仅为原来1/10的光学薄膜的溅镀设备“ULDiS-200UCP”(JDSU发布的英文资料)。该设备采用JDSU的专利技术“Meta-mode”,由爱发科开发。爱发科将以欧美以外的亚洲为中心进行销售。

为了以高画质显示高清电视及数字电影等高精细映像,要求投影机和背投电视等光学系统元器件必须具备很高的精度。此次的设备不仅适用于投影灯的反射镜片、全反射镜片以及滤光片等表面光学薄膜以及防反光薄膜的形成,还可用于MEMS光学元件的反射面以及封装玻璃表面的加工处理。有了该设备,过去依靠JDSU公司进行成膜的成品厂商将可自行加工。

此次开发的设备与2004年爱发科根据与JDSU签订的授权合同开发的“ULDiS-903CHL”相比,具有如下特点:(1)底板尺寸支持更大的面积,现有设备为对角长度75mm,而新设备则为直径200mm;(2)薄膜缺陷数由现有设备的每平厘米数个减小至0.1个;(3)成膜率得到了提高。现有设备使用硅时成膜率为0.6nm/秒,用铌则为0.3nm/秒,而新设备均为1nm/秒。

为了形成Si氧化膜等光学薄膜,“Meta-mode”技术通过连续完成先进行成膜速度很快的金属膜溅镀再进行氧化的过程,具备很高的生产效率。现有设备由于要在设备内部转动装有底板的工作台,因此无法减少污染导致的缺陷。而新设备不用移动底板即可进行成膜,因此可减少缺陷的产生。另外,作为现有设备来说,在膜与底板之间的界面上产生缺陷后还会影响到光学性能。而使用新设备,几乎看不到这个界面。

该设备售价2亿日元~2亿2000万日元,订货后5~7个月即可交货。现有设备由于能够在更低的温度下进行溅镀处理,因此将面向塑料溅镀等用途继续销售。

最新行业新闻2006年11月14日更新

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