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《现代电镀(原著第四版)(翻译版)》

放大字体  缩小字体发布日期:2011-11-23  浏览次数:1175

【作    者】[加]施莱辛格(Schlesinger,M.)、[美]庞诺威奇(Paunovic,M.) 主编

【出版单位】化工出版社

【出版日期】2006-8-1

【定    价】¥88.00 元

【图书简介】

  第三版《现代电镀》的出版已经过了四分之一个世纪,电化学沉积已发展成为一门具有许多新的和潜在应用的成熟学科。为了描述这些发展,第四版《现代电镀》邀请来自加拿大、美国、日本、德国等地专家(完全有别于第三版作者),向读者呈现了一本完整的电镀专著。新版涉及到广泛的边缘课题,从半导体的电镀到环境研究。
  第四版适合于有电镀实践经验的专业人员,也适合于初学者。它提供了清晰、完整、最新的原理解释,以及密切相关的电镀技术的应用,它不仅替代第三版成为电镀工艺的一个非常有效的资料来源,而且重点转移到电子工业,从物理方法到电化学方法,特别是关于第二代产品技术,如铜互连技术。
  内容包括:
  各种金属及合金的电镀
  半导体的电镀和绝缘体的电镀
  导电性聚合物的电沉积
  各种金属及合金的化学镀
  镀前预处理工艺
  生产技术,监测、试验和控制
  电镀与环境
  地址:北京市东城区青年湖南街13号
  邮编:100011
  电话:010-64519681
  联系人:周小姐

【图书目录】

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