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1， 广泛的电流密度范围内都可以得到镜面光亮的镀层，低电流密度区也可以得到较好的光亮度，有较理想的深镀能力。
2， 操作简便，光亮剂的消耗量少，不易出现问题。
3， 极强的整平性能，光亮剂稳定性较高，兼容性能好，较理想的性价比。
4， 镀层内应力低与铜层结合力好，适用于不过酸铜，直接镀光亮镍的电镀工艺。
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