环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀工艺 » 正文

电镀加工过程中酸性铜镀浴之维护及控制

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-16  浏览次数:1059

   酸性铜镀浴之维护及控制(Maintenance and Control)

 

   组成:硫酸铜是溶液中铜离子的来源,由于阴极及阳极电流效率正常情况接近100%,所以阳极铜补充铜离子是相当安定的。硫酸增进溶液导电度及减小阳极及阴极的极化作用(polarization)并防止盐类沉淀和提高均一性(throwing power)。高均一性镀浴中铜与硫酸比率要保持1:10。硫酸含量超过11vol%则电流效率下降。氯离子在高均一性及光泽镀浴中,可减少极化作用及消除高电流密度之条纹沉积(striated deposits)。

 

   温度:太部份镀浴在室温下操作,如果温度过低则电流效率及电镀范围(platingrange)将会减少。如果光泽性不需要,则可将镀浴温度提升到50℃以提高电镀范围,应用于电铸(electroforming),印刷电路或印刷板等。

 

   搅拌:可用空气、机械、溶液喷射(solution jet)或移动镀件等方法搅拌,搅拌愈好则容许电流密度(allowable current density)愈大。

 

   杂质:有机杂质是酸性镀浴最常见的、其来源有光泽剂(brighteners)的分解生成物,槽衬、阳极袋未过滤到物质、电镀阻止物(stopoffs)、防锈物质(resists)及酸和盐之不纯物。镀浴变绿色表示相当量之有机物污染,必需用活性碳处理去除有机物杂质,有时过氧化氢及过锰酸钾(potassium permanganate)有助于活性碳去除有机杂质,纤维过滤器(cellulose filter)不能被使用。

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2