抗反射涂料组成物

　　发明人 YAO H-R, LIN G-Y, YIN J, WU H-P, NEISSER M, DAMMEL R R

　　申请人 AZ Electronic Materials USA Corp.

　　描述了一种抗反射涂料组成物，其成分中包括不含芳香族发色基团的新型聚合物(适用作高数值孔径光刻中的抗反射涂层材料)。聚合物骨架及其不含芳香族发色基团的特质，决定了该材料具有超高蚀刻速率。该涂料组成物中的其余成分为产酸剂，也可含有交联剂。上述聚合物具有2种结构单元：一是从氨基塑料衍生而来的结构单元;二是从二元醇、三元醇、二硫醇、三硫醇、其他多元醇，二元酸、三元酸、其他多元酸，二酰亚胺、二酰胺、酰亚胺–酰胺，或其混合物衍生而来的结构单元，其中二元醇、二硫醇、三元醇、三硫醇、二元酸、三元酸、二酰亚胺、二酰胺、酰亚胺–酰胺可含有1个或多个氮原子及/或硫原子，又或含有1个或多个烯烃基团，以便当用于集成电路制造时，增强在某波长下的吸光系数，以及在用于抗反射材料时，获得高的折射率。