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一种镁合金微弧氧化膜的制备方法

放大字体  缩小字体发布日期:2012-08-16  浏览次数:1253
核心提示:本发明公开了一种镁合金微弧氧化膜的制备方法。镁合金经打磨、除油、干燥得到预处理的镁合金。预处理过的镁合金作为电解槽阳极,不锈钢容器作为电解槽阴极,采用单向正脉冲电流对镁合金进行微弧氧化处理

公开号 102080248

公开日 2011.06.01

申请人 浙江工业大

地址 浙江省杭州市下城区朝晖六区

本发明公开了一种镁合金微弧氧化膜的制备方法。镁合金经打磨、除油、干燥得到预处理的镁合金。预处理过的镁合金作为电解槽阳极,不锈钢容器作为电解槽阴极,采用单向正脉冲电流对镁合金进行微弧氧化处理,电流密度恒定,电解槽中的电解液配比为:Na2SiO3 20 ~ 25 g/L,NaOH 8 ~ 10 g/L,NaF 5 ~ 7 g/L,Na2EDTA 5 ~ 7 g/L、甘油2 ~ 4 mL/L。微弧氧化工艺参数为:电流密度20 ~ 50 mA/cm2,占空比10% ~ 30%,频率400 ~ 1 000 Hz,通电时间10 ~ 40 min。将经过微弧氧化处理的镁合金清洗、干燥,镁合金表面制得镁合金微弧氧化膜。本发明中的电解液成分简单,不含有Cr(VI),加入甘油作抑弧剂,制得的膜层均匀致密,与基体结合力强,耐腐蚀性、耐磨性好。

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