环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀专利 » 正文

一种在无氧铜基体上镀黑铬的镀液配方及电镀方法

放大字体  缩小字体发布日期:2012-09-04  浏览次数:1165
核心提示:本发明公开了一种在无氧铜基体上镀黑铬的镀液配方和电镀方法,镀液配方为:铬酐280 ~ 300 g/L,氟硅酸钾8 ~ 10 g/L,硝酸2 g/L。电镀过程包括喷砂、去油、酸洗、镀黑铬、在真空炉中进行热处理
 

公开号 102002738

公开日 2011.04.06

申请人 安徽华东光电技术研究所

地址 安徽省芜湖市弋江区高新技术开发区华夏科技园

本发明公开了一种在无氧铜基体上镀黑铬的镀液配方和电镀方法,镀液配方为:铬酐280 ~ 300 g/L,氟硅酸钾8 ~ 10 g/L,硝酸2 g/L。电镀过程包括喷砂、去油、酸洗、镀黑铬、在真空炉中进行热处理。本发明的优点在于:通过在无氧铜基体表面镀上一层均匀致密,附着力牢黑铬后,增强了收集极对换能后的电子的吸收,减小了次级发射的电子对慢波部件互作用的影响。

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2