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激光薄膜沉积的优点有哪些?

放大字体  缩小字体发布日期:2018-01-13  浏览次数:1310
核心提示:由于激光加热蒸发是独特的物理过程,故激光薄膜沉积有以下优点:(1)激光器安装在真空室外,简化了真空室内部的空间布置。由于采用

由于激光加热蒸发是独特的物理过程,故激光薄膜沉积有以下优点:

(1)激光器安装在真空室外,简化了真空室内部的空间布置。由于采用非接触式加热不需要坩埚,避免了坩埚的污染,适宜在超高真空下制备高纯薄膜。

(2)镀膜装置灵活性大。可以设置多个靶,施行顺序蒸发,一次完成多层膜的原位沉积产生原子级清洁的界面。

(3)可以蒸发金属、半导体、陶瓷等各种无机材料。有利于解决高熔点材料,如氮化物、硼化物、硅化物等的薄膜沉积问题。

(4)可引入各种活性气体,如氢、氧等,制备氢化物和氧化物薄膜。

(5)靶材用量少。靶的尺寸原则上只要比束斑大一点即可。故适于制备稀有贵重金属薄膜。

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