环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀工艺 » 正文

镀铜添加剂:镀铜工艺使用的络合剂—羟基亚乙基二膦酸盐(HEDP)

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-26  浏览次数:3433

羟基亚乙基二膦酸盐(HEDP)

英文名 1-Hydroxy Ethylidene l,Diphosphonic Acid

结构式:C2H807P2     相对分子质量206

纯的HEDP可由20%醋酸溶液中重结晶制得。它是含一个结晶水的白色单斜晶体。

常用的HEDP为50%的水溶液,它和磷酸很相似,是淡黄色黏稠的液体,相对密度约1.5,显强酸性,易溶于水,也溶于甲醇、乙醇。它的钾盐和铵盐在水中的溶解度很高,钠盐则较小,易从溶液中析出。因此,在高浓度的HEDP溶液中,最好不用NaOH调节pH值。

HEDP的结构和焦磷酸极为相似,主要的差别是两个磷酸基间连接的原子不同。由于0的电负性比C大,P-O键的极性比P-C键的大得多,因此,在高温、高pH值条件下,焦磷酸很容易遭0H一的进攻而水解成正磷酸盐。与此相反,HEDP在高温、高pH值条件下却很稳定。

 

P一0一P键的极性大还会影响磷酸基的酸性。带正电的P可以通过诱导效应使P-OH键上氧的电子云密度降低,有利于H+的离解,所以焦磷酸的酸离解常数pK比HEDP的酸离解常数pK大。一般来说,络合体的碱性越强,酸离解常数值越小,所形成的金属络合物越稳定。

HEDP为阴极型缓蚀剂。与无机聚合磷酸盐相比,缓蚀率约高4倍。在水溶液中,HEDP可解离成5个正、负离子,可与金属离子形成六元环螯合物,尤其是在与钙离子可以形成胶囊状大分子螯合物,阻垢效果佳。HEDP的螯合物作用不是按化学当量进行,而且本身还具有一般有机多元磷酸的缓蚀、阻垢剂的通性和溶限效应。HEDP对铜离子的络合作用如下。

(一)HEDP-Cu2+络合物的形态

Cu2+在不同的pH值时与HEDP(H5L)可以形成各种形态的络合物,如[Cu(HL)]2-、[Cu(H2L)]一、[Cu(H3L)]、[Cu(H2L)2]4-、[Cu2(HL)]、[Cu2(H2L)]+、[Cu2L]-、[CuL2]8一。

根据最近的研究,在未加入K2C03的条件下,当HEDP/Cu2+=2~4、pH=9~11时,镀液中主要形成HEDP/Cu2+=2的络合物。其组成和结构可能为:[Cu(H2L)2]4-,[Cu(HL)2]6-。在这两个络合物中,Cu2+垂直轴向的两个配位位置可能被0H一或H20所占据。在阳极区因为HEDP的分子体积大,扩散速度慢,往往Cu2+的浓度大于HEDP的浓度。所以金属离子以这两种形式溶解下来的可能性比较小。因而可以形成[Cu(HL)]2-、[Cu(H2L)]一、[Cu2(HL)]和[Cu2(H2L)]+等形式的络离子。在这些络离子中,Cu2+的配位数不能为HEDP所饱和,空的配位位置将为0H一所占据,很可能形成[Cu(OH)2(HL)]4-、[Cu(OH)2(H2L)]3一形式的混合络合体络合物。它们还可以通过OH一或02一的桥联作用而形成更加复杂的多核络合物。这些长链的多核络合物常以胶粒形式分散在溶液中。

(二)Cu2+-HEDP络离子的电极电位

当HEDP/Cu2+=2~4、pH=9~10时,镀液中主要存在的Cu2+-HEDP络离子发生如下反应。

 

即是Cu2+:HEDP=1:2的络合物。以[Cu(H2L)2]4一为例,其lgβl42=15.5。

其电极电位为:

 

仅仅从上述Cu2+一HEDP的电极电位来看,HEDP的络合作用仍然较弱。不足以抑制HEDP镀铜液中钢铁件和锌压铸件表面的置换铜的产生。当然,上面仅仅是简化了的理论计算,实际体系的数值与很多因素有关。

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2