内应力的种类 镀层的应力受底材的表面状态和镀层组织结构的影响。前者的影响习惯称为外来应力(extrinsic stress)，后者的影响称为内在应力(intrinsic stress)，简称内应力。内应力分张应力和压应力两种。张应力是指某些因素引起镀层收缩的应力，而压应力则是使镀层趋向膨胀的应力。张应力用正号表示，压应力用负号表示，单位为帕斯卡(Pa)。当镀层的压应力大于镀层与底材的附着力时，镀层会长疱或脱皮。若镀层的张应力大于镀层的抗张强度时，镀层会产生裂纹，从而降低其抗腐蚀性能。当镀层中的内应力分布不均匀时，镀层会产生应力腐蚀。此外，内应力还可能增大镀层的孔隙率和脆性。 在电铸时，为使电铸模与原型易脱离，要求电铸层的应力要很小，否则会引起长疱、变形和剥离困难。 内应力还可分为宏观应力与微观应力。用弯曲阴极变形法测得的是宏观应力，这是镀层各部分所受应力的平均值，即晶粒的均匀收缩与膨胀。若以未变化时的原子面间距为do [即无应力时的原子面间距(见图4-1)]，当其受到压应力时，原子面间距缩小至d1，这种收缩是弹性收缩，其遵守普朗克的X射线绕射条件。 2dsinθ=λ (4-1) 式中，d为原子面间距；θ为普朗克角；2θ为绕射角；λ为X射线的波长。 由上式可知当X射线波长一定时，d与绕射角2θ成反比，即绕射角2θ增大时，原子面间距d缩小，此时出现压应力。反之，当2θ变小时，d增大，此时出现张应力。 当绕射线的位置(2θ)不变，而仅仅绕射峰变宽，与此相对应的应力称为微观应力。由图4-1(c)可见，这实际上是由许多绕射角不同的微小绕射峰组成，即微观应力指晶格内不同部位的应力，由张应力群和压应力群组成，其大小也各不相同，只在极微小的部分保持定值。因此微观应力是一种不均匀的应力，而宏观应力则是均匀的。
图4-1 X绕射图随内应力的变化 |
