环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀工艺 » 正文

化学镀厚铜

放大字体  缩小字体发布日期:2012-05-03  浏览次数:1319

   双面和多层印制板可以采用化学镀厚铜的工艺技术,不但能缩短生产周期,节约材料,同时还能使印制板精度提高,可靠性也能提高。这是因为电镀铜孔内镀层不能达到均匀一致,板面上也不能达到均匀一致,而对化学镀铜来说,由于不存在边缘效应、应力集中等问题,所以采用化学镀厚铜技术是可以经得起考验的。

   双面印制板化学镀厚铜过程如下。

   ①电路图形用抗电镀印料网印制作,然后蚀刻图形。

   ②蚀刻图形后用5%氢氧化钠除去感光胶。

   ③网印感光阻焊剂,制作阻焊图形。

   ④再进行感光胶网印,用阻焊底版再次曝光,显影,裸露出孔位焊盘。

   ⑤钻孔。

⑥化学镀厚铜前处理。

a.酸性除油,3min。

b.粗化,2~3min。

c.预浸,l一2min。

d.活化,用5%氢氧化钠处理2~3min,用水冲洗板面;用l%氢氧化钠处理l~2min,用水冲洗。

   ⑦化学镀厚铜。

硫酸铜

10~12g/L

EDTA·2Na

35~40g/L

NaOH

l5~20g/L

2,2’一联吡啶

适量

温度

60℃±2℃

空气搅拌

需要

连续过滤

需要

   化学镀厚铜应采用pH自动控制仪和铜离子控制仪,确保化学镀厚铜溶液的稳定性和连续性。化学镀厚铜速度大约5~6μm/h。

   ⑧化学镀厚铜表面涂覆抗氧化层,主要有镀Ni/Au或镀Sn/Pb。另外还可直接涂覆助焊剂。

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2