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氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究:结论

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-17  浏览次数:1186

关 键 词:氟硼酸盐体系,电沉积,瓦合金箔,工艺研究

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4  结论

 

   (1)在氟硼酸盐体系中,各工艺参数对电沉积因瓦合金镀层中铁含量的影响差异比较明显,尤其是阴极旋转速率,说明铁的电沉积受扩散的影响较大:而在实验条件范围内,阴极电流效率的变化幅度基本稳定在士4%。

 

(2)确定了制备因瓦合金箔的最佳工艺参数为:c(Fe2+)=0.15 mol/L,v(阴极旋转)=600~900 r/min,PH=2.5~3.0,θ=45~55℃,Jk=18~25 A/dm2。

 

(3)在最佳工艺条件下得到了平整光亮、致密、柔韧性好、含铁量为62%~66%的因瓦合金箔。

 

参考文献:

[1] JILES D C.Recent advances and future directions in magnetic materials[J].Acta Materialia,2003,51(19):5907—5939.

[2] 屠振密,安茂忠,张景双,等.电镀合金的应用及前景展望[J].电镀与精饰,2002,24(5):26.32.

[3] 《金属手册》编写委员会.金属手册(第3卷)[M].4版.北京:机械工业出版社,1997.

[4] GRANDE W C,TALBOT J B.Electrodeposition of thin films of nickel—iron[J].Journal ofthe Electrochemical Society,1993,140(3):669—674.

[5] 杨余芳,龚竹青,邓丽元,等.Ni—Fe合金电镀的研究进展们.电镀与涂饰,2005,24(5):23—27.

[6] 李peng,刘天成,孙克,等.电沉积Fe-36%Ni磁性合金工艺的研究[J]电镀与涂饰,2005,24(6):17—21.

[7] PARK Y B.Nano invar alloys and process for producing the same:US,2006/0037671A1[P].2006_02-23.

[8] 张允诚,胡如南,向荣.电镀手册[M].3版.北京:国防工业出版社,2007,

[9]  MARIKAR Y M F,VASU K l.Electrodeposition of the ternary ir01卜   cobalt-nickel alloy from the fluoborate bath--Part l:Deposition.anode   corrosion,mechanism[J].Electrodeposition and Surface Treatment,1 974,2(4):281—294.

[10] MARIKAR Y M F,VASU K l.Electrodeposifion of the ternary iron-cobalt-nickel alloy from the fluoborate bath—_Pan Il:Structure and properties of the deposits[J].Electrodeposition and Surface Treatment,1974,2(4):295·302.

[11] 迟玉中.电沉积Ni-Fe纳米合金工艺研究[J].化工之友,2006(2):35.36.

[12] HARRIS T M,CLAIR J St.Testing the role of metal hydrolysis in the anomalous electrodeposition of Ni-Fe alloys[J].Journal of the Electrochemical Society,1996,143(12):3918-3922.

[13] GLASSTONE S,SYMES T E.The electro-deposition of iron-nickel alloys.Part I[J].Transactions ofthe Faraday Society,1927,23:2.13—226.

[14] GLASSTONE S,SYMES T E.The electr0—deposition of iron-nickel alloys.Part Il[J]Transactions ofthe Faraday Society,1928,24:370—378.

[15] 罗北平,龚竹青,郑雅杰,等.因瓦合金箔电沉积的制备及其微观结构和耐蚀性[J].中南大学学报(自然科学版),2006,37(2):263.268.

[16] AFSHAR A,DOLATI A G,GHORBANI M.Electrochemical chametefization of the Ni-Fe alloy electrodeposition from chloride·-citrate·-glycolic acid solutions[J].Materials Chemistry and Physics,2003,77(2):352—358.

[17] HORKANS J.Effect of plating parameters on electrodeposited NiFe[J].Journal ofthe Electrochemical Society,1981,128(1):45-49.

[18] YIN K_M,JAN S-L.Current pulse plating ofnickel-iron alloys on rotating   disk electrodes[J].Surface and Coatings Technology,1996,79(1/3):252-262.

 

   [编辑:沮靖邦]

 

 

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