环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀工艺 » 正文

化学镀铜与电镀工艺去除环氧玷污方法

放大字体  缩小字体发布日期:2012-05-08  浏览次数:1178

去除环氧玷污的方法分湿法和干法两种:

第一种湿法处理:

I H2SO4-HF处理法:首先用浓硫酸浸渍处理30秒-1分钟。使环氧基和SO4-2反应,产生溶于水的黄褐色环氧磺化物,从而除去孔壁上的环氧玷污层。然后再用HF水溶液蚀刻露出来的玻璃纤维,使之得到光滑的孔壁表面;以利于化学镀铜。

II高锰酸钾氧化法:首先将多层板浸在有机溶液中,使环氧树脂溶胀,然后再用加热至500C的高锰酸钾氧化液除去溶胀的环氧权树脂,然而在水洗时高锰酸根会分解形成二氧化锰沉积在板面上,造成二次污染,为此在高锰酸钾处理后还需要还原处理,整体工艺比较复杂。

用浓硫酸去除环氧钻污的处理工艺简单可靠。去除玻璃纤维,一种是直接用浓的氢氟酸,进行处理。另一种方法是使用盐酸和氟化氢铵的混合物。

HCL100m1/1

NH4HF2200g/1

处理时间3-4分钟

HF蚀刻玻璃纤维之后在孔壁表面上会生产一层白色的氟化钙CaF2沉淀物。为此需要用5%的HCL浸渍3-5分钟使CaF2和HCL反应形成溶于水的CaF2,从而去除孔壁上的CaF2沉淀物。

第二种干法处理:

该法是用等离子蚀刻的方法在真空筒内去除环氧玷污,由于此方法生产效率低,只是在特殊情况下才使用,例如制造聚酰亚胺与环氧玻璃复合的多层板,用等离子去除钻孔孔壁上的树脂玷污。

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2