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光学系统用铝合金材料的硬质氧化工艺:结论

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-19  浏览次数:1029

(1)在含有260—300 g/L硫酸、10~15 g/L草酸和10~20 g/L多元醇的溶液中,温度5~7 ℃、电流密度2~3A/dm2拼条件下氧化50 min,可获得厚度l5μm、显微硬度450 HV、镜面反射率低于8.4%的硬质氧化膜层。该氧化膜能够满足光学变焦机构对尺寸变化、表面硬度及反射率的质量要求。

 

(2)硫酸质量浓度、电流密度、氧化时间和温度对氧化膜的生成和溶解平衡影响较大,因此对氧化膜的反射率也有明显影响。

 

参考文献:

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[编辑:吴杰]

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