环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀百科 » 正文

钕铁硼电镀:钕铁硼电镀工艺

放大字体  缩小字体发布日期:2012-01-12  浏览次数:1453
钕铁硼电镀:钕铁硼电镀工艺

   钕铁硼电镀根据产品使用环境的不同而采用了不同韵电镀工艺,表面镀层也分为两大类,一类是镀锌,用于常规产品;另一类是镀镍,用于要求较高的产品。也有少数产品从整机需要出发而要求镀其他镀种的,比如镀合金、镀银等。

   (1)镀锌

钕铁硼产品的镀锌采用先化学浸锌再镀锌的工艺。

①化学浸锌

硫酸锌

35g/L

氟化钾

l0g/L

焦磷酸钾

l20g/L

温度

90℃

碳酸钠

l0g/L

时间

40s

②氯化钾光亮镀锌

氯化钾

180---200g/L

pH值

5.0~5.5

氯化锌

60~80g/L

温度

室温

硼酸

25~35g/L

电流密度

l~2A/dm2

商业光亮剂

按说明书加入

   ③镀后处理。经镀锌的钕铁硼制品一定要经过钝化处理,可采用低铬或三价锋、元铬钝化,然后经烘干后表面涂罩光涂料。彩色钝化的耐中性盐雾试验要求不低于72h。

   (2)镀镍

   钕铁硼镀镍实际上也是多层镀层,需要先预镀镍以后,再经镀铜加厚,然后表面镀光亮镍。

   ①预镀镍

硫酸镍   300g/L 

pH值   4.O~4.5

氯化镍   50g/L 

温度   50~60℃

硼酸   40g/L 

电流密度0.5~1.5A/dm2

添加剂   适量 

时间   5min

②焦磷酸盐镀铜加厚。作为中间镀层,尽管流行采用酸性光亮镀铜工艺,但是对于钕铁硼材料,进行加厚电镀不宜采用酸性镀铜,这是因为在强酸性镀液中,已经预镀了阴极镀层的多孔性材料会很容易发生基体微观腐蚀;为以后延时起泡留下隐患。比较合适的工艺是接近中性的焦磷酸盐镀铜。

焦磷酸铜

70g/L

光亮剂

适量

焦磷酸钾

300g/L

pH值

8~8.5

柠檬酸铵

30g/L

温度

40~50℃

氨水

3mL/L

电流密度

l~1.5A/dm2

③光亮镀镍

硫酸镍

300g/L

商业光亮剂

按说明书加入

氯化镍

40g/L

pH值

3.8~5.2

硼酸

40g/L

温度

50℃

低泡润湿剂

lmL/L

阴极电流密度

2~4A/dm2

对于需要其他表面镀层的钕铁硼材料,可以在完成中间镀层的铜加厚电镀后,再进行其他表面镀层的加工。有时为了增加镀层的厚度和可靠性,还可以在焦磷酸盐镀后再加镀快速酸性镀铜工艺,以获得良好的表面装饰性,再镀其他镀层会有更好的效果。进行这些电镀操作的要点是一定要带电下槽和中途不能断电,否则会回也孔隙中镀液的作用而对基体造成微观腐蚀,影响结合力。

 

注:本站部分资料需要安装PDF阅读器才能查看,如果你不能浏览文章全文,请检查你是否已安装PDF阅读器!

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2