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激光蒸镀

放大字体  缩小字体发布日期:2012-08-10  浏览次数:961
核心提示: 激光蒸镀是利用激光束作为热源加热蒸镀的一种较新薄膜制备方法。用于激光蒸发的光源可为C02激光、如激光、钕玻璃激光、红宝石激光、YAG激光以及准分子激光等。

激光蒸镀是利用激光束作为热源加热蒸镀的一种较新薄膜制备方法。用于激光蒸发的光源可为C02激光、如激光、钕玻璃激光、红宝石激光、YAG激光以及准分子激光等。目前通常采用的是在空间和时间上能量高度集中的脉冲激光,以准分子激光效果最好。

图9-5激光蒸发实验装置原理

1~玻璃衰减器2一透镜3一光圈4一光电池5—分光器6一透镜’卜基片&一探头9一靶10一真空室ll一xecl激光器

图9-5为Xecl激光蒸镀示意图。激光器置于真空室之外,高能量的激光束透过窗口进入真空室中,经透镜聚焦之后照射到靶材上,使之加热气化蒸发并沉积在基片上。

激光加热法的特点是非接触式加热,避免了坩埚污染,宜制作高纯膜层;能量密度高,可蒸发任何能吸收激光光能的高熔点材料,且由于蒸发速度极高,制得的合金、化合物薄膜组成几乎与原蒸发材料相同;易于控制,效率高,不会引起靶材带电。但激光蒸发过程中有颗粒喷溅,设备成本较贵,大面积沉积尚有困难。

激光蒸镀可制备各种金属和高熔点材料,以及半导体、陶瓷等各种无机材料。

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