激光蒸镀是利用激光束作为热源加热蒸镀的一种较新薄膜制备方法。用于激光蒸发的光源可为C02激光、如激光、钕玻璃激光、红宝石激光、YAG激光以及准分子激光等。目前通常采用的是在空间和时间上能量高度集中的脉冲激光，以准分子激光效果最好。  图9-5激光蒸发实验装置原理 1～玻璃衰减器2一透镜3一光圈4一光电池5—分光器6一透镜’卜基片＆一探头9一靶10一真空室ll一xecl激光器 图9-5为Xecl激光蒸镀示意图。激光器置于真空室之外，高能量的激光束透过窗口进入真空室中，经透镜聚焦之后照射到靶材上，使之加热气化蒸发并沉积在基片上。 激光加热法的特点是非接触式加热，避免了坩埚污染，宜制作高纯膜层;能量密度高，可蒸发任何能吸收激光光能的高熔点材料，且由于蒸发速度极高，制得的合金、化合物薄膜组成几乎与原蒸发材料相同;易于控制，效率高，不会引起靶材带电。但激光蒸发过程中有颗粒喷溅，设备成本较贵，大面积沉积尚有困难。 激光蒸镀可制备各种金属和高熔点材料，以及半导体、陶瓷等各种无机材料。 |
