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低浓度铬酐镀铬工艺

放大字体  缩小字体发布日期:2012-10-17  浏览次数:694
核心提示:低浓度铬酐镀铬工艺是指镀铬液中铬酐含量在30~60g/L的镀铬工艺,铬酐使用量只有普通标准镀铬工艺的l/5~1/8,既减轻了铬酐对环境的污染,又节约了大量的原材料。
 

低浓度铬酐镀铬工艺是指镀铬液中铬酐含量在30~60g/L的镀铬工艺,铬酐使用量只有普通标准镀铬工艺的l/5~1/8,既减轻了铬酐对环境的污染,又节约了大量的原材料。低浓度铬酐镀铬工艺组成及操作条件见表4—32。

表4-32低浓度铬酐镀铬工艺组成及操作条件

 


 

采用低铬酐镀铬工艺可以获得装饰性铬镀层和硬铬镀层,其光泽性、硬度、结合力以及裂纹等方面,均能满足质量要求。但有时镀层表面会出现黄膜或彩色膜,可在5%的硫酸溶液中除去,然后在碱性溶液中清洗。

低铬酐镀铬液的分散能力比常规镀铬电解液好,但深镀能力比较差,这给形状复杂的零件带来了一定困难。同时,电导率下降,槽电压升高,因而能耗高,镀液升温快。低铬酐镀铬的阴极电流效率达到l8%~20%。

由于上述原因,使得低铬酐镀铬工艺受到一定的限制,目前的研究方向集中在寻求新的催化剂,以改善镀液性能,降低槽电压。

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