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铜及铜合金的电解抛光和化学抛光

放大字体  缩小字体发布日期:2013-05-16  浏览次数:2700
核心提示:铜及其合金的电解抛光,广泛采用磷酸电解液。其工艺规范列于表2—4—4。

一、电解抛光

铜及其合金的电解抛光,广泛采用磷酸电解液。其工艺规范列于表2—4—4。

新配制的溶液,应进行通电处理。配方1通电量为5A·h/L,此时溶液中的含铜量为3g/L~5g/L;配方2通电量约为10A·h/L。

表2—4—4铜及其合金也解抛光工艺规范

铜及其合金也解抛光工艺规范

在使用过程中,溶液的密度和各组分含量将发生变化,应经常测定密度并及时调整。配方2溶液中三价铬的含量(以Cr2O3计算)超过30g/L时,可以在阳极电流密度为l0A/dm2和温度为40℃~50℃下,用大面积阳极通电处理,将三价铬氧化为六价铬。不工作时,应将溶液盖严,以防溶液吸收空气中的水分而被稀释。。

阴极表面的铜粉应经常除去。

二、化学抛光

铜和单相铜合金,可以在磷酸.硝酸.醋酸或硫酸.硝酸.铬酸型溶液中进行化学抛光。其工艺规范列于表2—4—5。

表2—4—5铜及其合金化学抛光工艺规范

铜及其合金化学抛光工艺规范

在使用过程中,需经常补充硝酸,抛光时如果二氧化氮(黄烟)析出较少,零件表面呈暗红色时,可按配制量的l/3补充硝酸。为防止过量的水带入槽内,零件应干燥后,再行抛光。

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