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导电氧化膜工艺

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-21  浏览次数:1150

导电氧化是电子产品铝构件的常用处理工艺。根据产品不同情况的需要,有无色膜和彩色膜等方法。

 

   (1)无色透明导电氧化

 

磷酸

22g/L

硼酸

2g/L

铬酐

4g/L

温度

室温

氟化钠

5g/L

时间

l5~60s

 

膜层的厚度约在0.3~O.5μm,导电性能良好。

 

   (2)彩色导电氧化

 

铬酐

4g/L

温度

30~35℃

氟化钠

lg/L

时间

25~30s

铁氰化钾

0.5g/L

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