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酸性电化学抛光工艺配方有哪些种?

放大字体  缩小字体发布日期:2012-05-04  浏览次数:666

酸性电化学抛光工艺随被抛件铝质牌号的不同有许多种,常用的几种见表。

 

铝及铝合金电化学抛光工艺

配方

含量(质量分数)/%

工艺规范

   l

 

 

   2

 

 

   3

 

 

   4

 

 

   5

 

 

   6

 

 

磷酸(H3P04,d=l.70)

86~88

77

34

45

58

70

硫酸(H2S04,d=1.84)

 

9

34

45

41

5

铬酐(Cr03)

14~12

8

4

5

 

 

氢氟酸(HF)

 

 

 

 

 

10

甘油

 

 

 

 

1

 15

蒸馏水

d=1.72~1.74

6

28

5

 

 

温度/℃

85~95

85~95

85~90

85~90

75~85

85~100

电压/V

15~30

15~20

10~18

10~I5

12~20

 

阳极电流密度/A·dm-2

8~14

10~14

20~30

8~I2

20~30

10~15

时问/min

2~4

4~8

6~8

3~6

4~6

5~10

阳极材料

   铅或不锈钢

 

配方l、配方2;适用于抛光LG1~LG5等工业高纯铝和LT66铝镁合金。

 

配方3:适用于抛光铝、铝镁合金、铝锰合金,以及硬铝合金Lyl、Ly2。

 

配方4:适用于抛光Lyl2硬铝(含铜、镁、锰等化学成分的铝合金)。

 

配方5:适用于抛光LlL2L3等工业纯铝和TL66铝锰合金。

 

配方6:适用于抛光铝硅合金压铸件。

 

   所有工艺配方抛光时都应搅拌溶液或上、下移动阳极(20~30次/min,行程5~7cm/次),这样可以获得高度光亮的表面质量。

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