环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀百科 » 正文

硬盘与碟片电镀:铝上直接镀化学镍

放大字体  缩小字体发布日期:2012-02-21  浏览次数:1830
硬盘与碟片电镀:铝上直接镀化学镍

   由于浸锌工艺采用了浓碱,对基体会造成微观腐蚀,作为一种改进是采用酸性化学浸锌工艺,但镀覆的时间比碱性液要长,对于具有两性金属性质的铝来说,也存在基体置换腐蚀的危险,因而更进一步的改进是在铝上直接化学镀镍。一种直接化学镀镍工艺是采用双还原剂的酸性化学镀镍磷硼:

硫酸镍

85g/L

硼氢化钠

0.4g/L

甲酸

28g/L

pH值

5.5

次磷酸钠

21g/L

温度

80℃

这种工艺减少了化学镀镍的工序操作流程,从而使生产效率有所提高,但还不是硬盘表面膜结构的根本性改进。

 

注:本站部分资料需要安装PDF阅读器才能查看,如果你不能浏览文章全文,请检查你是否已安装PDF阅读器!

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2