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怎样测定镀液的沉积速度?

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-25  浏览次数:710

   镀层的沉积速度是指单位时间内所镀得的镀层的厚度。在电镀过程中,影响镀层厚度的因素较多,因此,在描述镀层的沉积速度时,要有一些限定条件,比如是采用的什么镀液(工艺);是在什么电流密度条件下电镀和所用镀液的电流效率如何等,这样才可以使电镀的速度有可比性。具体测量镀层厚度时,就是在确定了这些因素后,取单位面积的试片经前处理、干燥后称重,然后在单位时间内电镀,再经清洗后干燥、冷却、称重。将所得重量减去初始重量,即得所沉积的金属的质量。’再除以单位面积和所用时间,即可得单位时间的镀层厚度。

   可以用相关公式验证所测的沉积速度:

式中V—镀液沉积速度,µm/h;

δ-镀层平均厚度,µm;

t—时间,min和h;

M一金属的摩尔质量,g/mol;

i—电流密度,A/dm2;

     η-电流效率,%;

      n—电沉积反应中单一离子还原为金属原子时所得的电子数目;

F—法拉第常数,26.8A·h/mol;

d—所测金属的密度,g/cm3。

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