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中性电镀液(pH值5~9)

放大字体  缩小字体发布日期:2012-09-26  浏览次数:1070
核心提示:在这个pH值范围内研究过许多化学体系,包括草酸盐,氨基磺酸盐等。
 

在这个pH值范围内研究过许多化学体系,包括草酸盐,氨基磺酸盐等。在许多情况下,这些体系拥有合适的电流一电位曲线来沉积钯,并可避免氢的共沉积,如果用“非老化”的电镀液进行首次沉积,产生的沉积膜硬度、延展性以及表面外观都很好,但是,这些体系不能承受过度老化。

在研究用于工业使用的电镀工艺时,氢脆不是唯一存在的问题。在这些情况里,配位体系的化学和电化学稳定性也是个主要的问题。而且,由于配位体与盐(例如,PdClz)的反应较慢,故很难设计出简单的补给体系。溶液中配位体的分解和配位体的堆积加剧了氢脆问题和微裂纹。但是,基于氨配位体的钯电解液证明是可行的,它们差不多只能在pH值为5~9范围内使用。

Hedrich和Raub[37,39,40]广泛研究了无机氨添加剂,发现他们非常适合于沉积技术应用的钯膜,如表12—9所示,镀液N和O。图l2—26表明,该体系的还原电位比酸性体系更负。例如,在0.Imol/L PdClz溶液中钯的电位EH为+0.55V,而同浓度钯四氨络合物的电位为+0.22V。在钯的二氨二硝基电解液中,钯盐中钯还原与在氨体系中几乎相同的电势范围内进行。

(1)四胺电解液,“无添加剂”体系。胺络合物在氯化钯溶液中形成,此时有氨离子存在,pH值大于4.5。当pH值等于7.5时,这些络合物全部转化成四方平面络合物。当钯四胺溶液被盐酸酸化时,这个络合物逐步转变成钯二氨络合物,这种络合物在酸性范围内是稳定的。从pH值等于6开始,黄色的Pd(NH3)2C12在0.1mol/L冷溶液中沉淀,pH值为4时沉淀完全。

下面的组成被选择作为电沉积实验的标准电解液。

 


 

用NH40H将pH值调至8~10之间。

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