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镁基储氢合金的电沉积和化学镀制备法

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-17  浏览次数:635

    目前制备镁基储氢合金的主要方法有熔炼法、氢化燃烧合成法、机械化合金法及溅射法等[4-5]。前3种方法可制备块状或粉末状合金,溅射法可制备合金薄膜。相对于块状储氢合金,储氢合金薄膜化后具有以下优点:(1)吸、放氢性能好;(2)抗粉化性能优良;(3)可相对容易地对薄膜进行表面处理,如表面离子轰击、化学镀等。南开大学陈军等[6]利用磁控溅射法制得了厚度约为600 nm的Mg-Ni储氢薄膜,此薄膜在150 ℃、3.3 MPa条件下就能可逆地吸、放氢。华南理工大学的研究表明,Mg-Ni储氢薄膜除了具有上述特点外,其内阻也较低(32 mΩ),有利于氢的扩散[7]

 

电沉积和化学镀技术在镁基储氢合金制备及表面改性中的应用

镁基储氢合金的电沉积和化学镀制备法:电沉积法

镁基储氢合金的电沉积和化学镀制备法:化学镀法

电沉积和化学镀在镁基储氢合金表面改性中的应用:沉积金属元素

电沉积和化学镀在镁基储氢合金表面改性中的应用:沉积Ni基合金

电沉积和化学镀技术在镁基储氢合金制备及表面改性中的应用:结语

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