环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀工艺 » 正文

装备配置与电子电镀工艺参数控制

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-24  浏览次数:1248

参观过专业电子电镀企业的人都会有一个感受,那就是电子电镀工厂的设备通常比普通电镀企业的设备要好得多,也干净整齐一些。

 

这是对的,当然我们希望所有电镀企业都应该与电子电镀企业一样,加强设备的投入和现场的管锺。

 

为什么电子电镀对装备的要求要好一些?这也可以说是电子电镀的一个重要特点。因为要使电子电镀过程得到严格控釉,除了工艺、原材料的匹配、岗位操作要求和严格的管理外,电子电镀要求采用各种设备和工具来加以保证。没有科学合理的装备配置,很多工艺参数是难以保证其稳定性和重现性的。

 

   (1)温度控制系统

 

所有电子电镀加工过程中的热交换器都要配置恒温控制系统。包括前处理的除油、超声波清洗、电解除油、需要加温的电镀液、碱性镀液的热水洗、后处理的热水洗和干燥箱等供热器件,都要有温度控制系统,以最大限度地将人工控制的不确定因素降低至最小,防止过热导致的质量事故。采用温度控制系统的另一个重要好处是可以节约能源,防止过热造成的能源浪费。

 

(2)水质保证系统

 

电子电镀需要大量的纯净水,从一些镀种的配槽水到最后表面清洗的用水都要用到纯净水,并且对水质有比较高的要求。由于用量大、要求高,因此通常都要配置纯水机来保证纯净水的供应。现在流行的纯水系统是联合水处理系统,或称多级水处理系统,包括粗滤、阴阳离子树脂处理、超滤膜处理等。

 

(3)pH值控制系统

 

电子电镀对镀液或各种处理液的pH值要求比较严格,同时对清洗水的pH值也要求设置监测系统,以保证产品表面质量和抗腐蚀能力。镀液pH值控制系统是让设在镀液或处理液中的pH值测试电极与储存有调节pH值的酸、碱液的储液槽上的磁控开关连接,以便在pH值发生变化时,通过磁控开关将相应的酸液或碱液添加到镀槽中,并充分搅拌均匀。

 

(4)电量控制系统

 

镀槽的通电量与金属离子的消耗、光亮添加剂的消耗等物料和能源的消耗是成正比的,因此,物料的添加可以用电量的累计值作为人工或自动补加的依据。目前国内大多数电子企业还是以人工补加为主,少数企业实现了以电量控制自动添加光亮剂。

 

用于电量控制的设备的用电量主要以安培·小时(A·h)计。

 

(5)时间控制系统

 

如果没有这些装备,完全靠人工来管理,就会有很大的变数而处于风险状态。不是说人不能控制好这些参数,如果有负责任而又技术全面的操作者,是完全可以使电子电镀过程完全处在受控状态的。但是这是个理想状态,会因为人的不同和时间的不同出现变化,稳定性和持久性难以保证。在规模和持久的连续生产线,不能经受这样的风险。因此,电子电镀通常都采用各种高配置的设备来保证电镀过程处于受控状态。

 

(6)其他控制系统

 

其他控制系统包括镀液的循环过滤系统、超声波控制系统、阴极移动和镀液搅拌控制系统、镀液成分补加系统等,这些系统的控制都有相应的装备,但并没有统一的标准,有的尚在研发过程中,比如镀液成分的补加,要完全做到自动控制是有一定困难的,因此,大多数企业对这方面的操作仍然是以人工控制为主。

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2