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电化学抛光工艺有几大类?各有哪些特点?

放大字体  缩小字体发布日期:2012-05-04  浏览次数:736

与化学抛光类似,电化学抛光工艺在应用上主要有两大类,即碱性的电化学抛光和酸性的电化学抛光。

 

其中酸性的工艺配方应用比碱性的工艺配方较多。碱性电化学抛光生产成本虽然较低,但其抛光表面不如在酸性溶液中所获得的光亮。

 

碱性电化学抛光的另一个不足之处是对抛光基材的纯度要求更为严格,较为适宜的材料有Ll、L2、L3等纯铝及LT66等铝镁合金。

 

碱性电化学抛光除了上述对铝质有严格要求之外,在操作上也较复杂,并有某些局限性。主要表现在以下两个方面:

 

   (1)碱性电化学抛光后尚需脱膜处理。制件经抛光后表面会有半透明的氧化膜,需要进行脱膜处理,以提高其表面光洁度。脱膜液的工艺规范如下:

 

磷酸(H3P04)

30~50mL/L

铬酐(Cr03)

5~10g/L

温度

70~90℃

时间

l~2mm

 

(2)经抛光后制件表面易出现多种弊病。主要出现弊病现象有麻点、斑点、条纹状或乳白色的氧化膜。

 

第二种现象比第一种更麻烦,往往只有返修别无良策。

 

   酸性电抛光溶液不存在上述种种问题,抛光后光亮度也比碱性的好。

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