化学抛光工艺有哪些特点？

化学抛光工艺的特点有：工艺设备简单，无需电源设备，不受制件外形尺寸限制，抛光速度快，生产效率高，加工成本低。

   与电化学抛光工艺相比，表面光亮度稍差，但某些工艺条件下，例如制件体积较大，不便采用电化学抛光，且光亮度并非特别要求的制件，多采用化学抛光工艺。铝质纯度较高的制件进行化学抛光也能获得较为理想的抛光质量。