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化学抛光工艺有哪些特点?

放大字体  缩小字体发布日期:2012-05-03  浏览次数:706

化学抛光工艺的特点有:工艺设备简单,无需电源设备,不受制件外形尺寸限制,抛光速度快,生产效率高,加工成本低。

 

   与电化学抛光工艺相比,表面光亮度稍差,但某些工艺条件下,例如制件体积较大,不便采用电化学抛光,且光亮度并非特别要求的制件,多采用化学抛光工艺。铝质纯度较高的制件进行化学抛光也能获得较为理想的抛光质量。

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