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专利号(申请号)：200820093019.5 公开（公告）号：CN201165556 公开( 公告)日：2008-12-17 申请日：2008-03-26 申请（专利权）人：苏骞 页 数：7 摘要： 本实用新型公开一种连续选择电镀的掩膜压板装置，包括镀槽、气缸，其中气缸通过气缸固定板竖直固定在镀槽上，气缸活塞杆下端固定有水平的上掩膜压板，与上掩膜压板对应的镀槽上设有水平的下掩膜压板，在气缸固定板上固定有至少两个气缸，所有气缸相对于上掩膜压板中心对称设置，在气缸固定板上还设有上掩膜压板的导向机构，气缸推动上掩膜压板沿导向机构上下移动。本实用新型的连续选择电镀的掩膜压板装置加压均衡稳定，非电镀区域覆盖严密，电镀质量高。 |
