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电沉积Ni一20%Fe(质量)磁性合金箔工艺的研究

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-11  浏览次数:748

摘  要:在硫酸盐一氯化物溶液体系中采用电沉积法制得了光亮Ni—Fe软磁合金箔,研究了n(Ni2+)/n(Fe2+)摩尔比,电流密度,镀液pH,镀液温度对电沉积Ni-Fe合金箔的铁含量的影响规律,确定了最佳工艺条件。验证性实验结果表明,在最佳工艺条件下制备的Ni-Fe合金箔是纳米晶合金,其Ni,Fe含量分别为80.4%(质量)和19.6%(质量)。这种合金箔外观平整、致密,具有明显的层状结构,其饱和磁通密度(M)为94.23emu/g,剩余磁通密度(M1)为4.33emu/g,矫顽力(Hc)为5.08oe。

1  前  言

软磁合金薄膜材料及其制备技术已成为21世纪材料科学与工程领域中的研究热点。电子元器件的发展趋势是高频、节能和小型化,对磁性材料的要求是同时具有较高的饱和磁感应强度和较低的损耗。制备适合上述要求的材料在制备工艺上需要减薄材料的厚度。目前,制备纳米软磁合金薄膜的方法分别有高频溅射、离子束溅射、分子束外延等物理气相沉积(PVD)及金属有机物化学气相沉积(MOCVD)、机械轧制和单辊超急冷法。快淬工艺对设备精度要求过高,其它方法不适于大规模的工业生产。近几年,电沉积技术以其在低温下操作,避免了高温时的扩散;可以任意控制沉积电位或电流密度从而控制薄膜厚度及结构;适用范围广,工艺简单,价格低廉等优势逐渐得了人们的青睐。

Ni—Fe合金箔是一种良好的软糍材料,磁饱和强度大,矫顽力小,具有较强的耐蚀性能,大量应用于电子计算机记忆装置上,因此受到许多科技工作者的广泛关注,并开展了许多Ni—Fe合金电沉积研究工作。

法国学者Jean—Morie Quemper等人研究了电沉积Ni—Fe合金层的工艺认为,合金的沉积速度与电流密度成直线关系,所得到的镀层最低矫顽力达到28A/m注:本站部分资料需要安装PDF阅读器才能查看,如果你不能浏览文章全文,请检查你是否已安装PDF阅读器!

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