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硫酸-甲醇体系钨电解抛光的可行性研究:结果与讨论(三)

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-18  浏览次数:678

3.槽电压对表面粗糙度的影响

 

    槽电压是电解抛光过程中重要的影响因素,直接影响抛光过程的进展。槽电压过小时,阳极表面处于活性溶解阶段,只被侵蚀:槽电压过大时,阳极反应剧烈,导致不均匀溶解,生成腐蚀斑,表面质量下降,且缩短电解液寿命。

 

    设置硫酸与甲醇的体积比为l:7,搅拌速率10 m/s,温度22 ,电解时间90 S,在2~30 V的电压范围内进行电解抛光。实验结果如图3所示,电压与表面粗糙度呈二次指数分布。2~14 V内,电压较低,钨发生活性溶解,其表面呈腐蚀状态,R。随电压的增大而减小,钨表面呈腐蚀或部分光亮。l5~24 V是比较适合的抛光电压范围,此时尺。随电压的增大而缓慢变化,数值分布于二次曲线的拐点附近,金属表面抛光均匀。当电压>25 V时,R。随电压的增大而增大,抛光机制以蚀坑扩展为主。抛光表面在短时内产生大量的密布蚀坑,蚀坑很快扩大并连成一片,使表面发生不均匀溶解,表面光亮,但有麻点或条纹组织生成。因此,15~24V是比较稳定的抛光区。

 

 

图3  槽电压对表面粗糙度的影响

Figure 3 Effect of cell voltage on surface roughness

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