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中频交流磁控溅射

放大字体  缩小字体发布日期:2012-08-16  浏览次数:802
核心提示:磁控溅射除了可采用直流和射频电源外,还可以使用中频交流电源。现在一般推荐中频交流磁控溅射电源为40kHz,正弦波形,对称供电,并带有自匹配网络的交流电源。

磁控溅射除了可采用直流和射频电源外,还可以使用中频交流电源。现在一般推荐中频交流磁控溅射电源为40kHz,正弦波形,对称供电,并带有自匹配网络的交流电源。图9—14为德国莱定公司TwinWay溅射系统。

 


 

图9.14德国莱定公司Twin May溅射系统

中频磁控溅射常用两个靶,并且两个尺寸大小和外形相同的靶并排配置,故称孪生靶。溅射时两个靶同时供电,两个靶轮流作阳极和阴极,在同半周期互为阳一阴极,这样既抑制了靶面打火,又消除了“阳极消失”的现象。中频双靶磁控溅射尤其适用于制备绝缘膜、化合物膜等。

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