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硫酸-甲醇体系钨电解抛光的可行性研究:结果与讨论(六)

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-18  浏览次数:739

6.钨抛光表面质量的表征

 

    通过上述一系列实验,确定了硫酸_甲醇体系中钨电抛光的工艺参数为:硫酸与甲醇的体积比1:7,电压15~24 V,温度15~25℃,搅拌速率10 m/s。在此工艺条件下对金属钨进行电抛光,抛光后的样品表面有足够的光泽,平整、光滑,呈镜面光亮。评价电抛光质量的指标一般为表面反射率和表面粗糙度。

 

6.1  表面反射率

 

    抛光前表面只能照出模糊的影子,反射率最高为57%;抛光后呈镜面光滑,在2 100~2 200 nm范围内反射率高达99%,如图6所示。电解抛光大大提高了钨表面的光泽度。

 

6.2  表面形貌

 

    电解抛光前,钨箔经砂纸打磨,表面有明显的划痕,易形成不规则的晶面,可能存在破碎晶粒的变形层;抛光后划痕消失,表面平整光滑,如图7所示。

 

 

图6电抛光前后钨箔的反射率

Figure 6 Reflectance of tungsten foil before and after electropolishing

 

 

图7钨箔电解抛光前后的扫描电镜照片

Figure 7 SEM images of tungsten foil before and after electropolishing

 

6.3  表面粗糙度

 

    经过电抛光,钨样品的粗糙度尺Rrms。得到了明显的改善,由抛光前的119 nm下降到12 nm(如图8所示)。

 

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